PSM-KrF | BLANK系列

Phase Shift Mask（即PSM，相移掩模）是通过在掩模相邻透光区域引入180°相位差，使光波在成像时发生相消干涉，削弱暗区光强并增强亮区对比度，从而突破传统二元掩模的分辨率限制。

其产品结构为石英基板（SiO2）、相位移层（MoSi）、金属层（Cr）、光阻（PR，即光刻胶），是先进光刻工艺的核心关键部件。