产品与服务

BLANK 系列

空⽩掩膜版（别名 Blank Mask），作为掩膜版的核⼼基础材料，是半导体与显⽰⾏业光刻制程中图案转移的关键载体 —— 表⾯制作特定图案后，可直接通过光刻机将电路或器件图形精准转移⾄晶圆、衬底等基材。本产品核⼼由⾼洁净度⽯英基板（具备⾼平整度、⾼平滑度、低缺陷密度特性）、低反射率 Cr 膜（或可定制OMOG 替代材料）及光刻㬵层构成，通过直流磁控溅射、双⾯研磨抛光、精密涂㬵及全流程清洗检验等完整⼯艺制成，确保刻蚀均匀性、重复性与⾼良率产出。