ArF-Dry Pelliclle| Pellicle系列

ArF Pellicle 是适配193nm 波长 ArF 准分子激光（深紫外光）的光掩模版保护膜。它覆盖于光掩模（Mask）表面，阻隔微粒污染掩模图案并在高能量曝光下仍保持高穿透率、光稳定性，以保障光刻曝光正常，实现光掩模长效防护。