芯链历史性突破，打破高端垄断！

2026年7月7日，绍兴芯链半导体成功推出国内首款面向ArF光刻工艺的光罩保护膜（Pellicle）产品。这一里程碑的背后，是芯链对“实事求是、诚信正直、技术传承、品质承诺、创新务实、永续经营”企业文化的坚定践行。从填补国内空白到参与国际竞争，芯链正在用自主研发的硬实力，重新定义中国半导体光罩材料产业的坐标。

ArF Pellicle的成功量产，是芯链半导体积极响应市场需求、完善高端产品矩阵的关键一步。如果说此前首片KrF Pellicle的诞生，填补了国内空白，那么ArF产品的问世，则是我们向先进制程领域迈出的坚实步伐。

随着国内晶圆厂向更先进制程迈进，对光罩材料的透光率、厚度均匀性及缺陷控制提出了近乎苛刻的要求。芯链半导体敏锐洞察这一行业痛点，将ArF Pellicle作为核心战略产品进行攻坚。该产品的成功发布，不仅标志着芯链具备了为国内头部晶圆厂提供全规格光罩保护膜（涵盖I-line、KrF及ArF）的能力，更意味着我们能够为先进制程芯片制造提供稳定、可靠的耗材保障，有效降低下游客户对进口产品的依赖风险。

与此同时，芯链始终坚持以客户需求为导向，将产品性能与量产稳定性放在首位。通过前期在光罩基板领域的深厚积累，我们实现了保护膜与基板的协同验证，确保每一片ArF Pellicle都能精准匹配光刻工艺的严苛标准。这不仅为客户提供了更具竞争力的本土化供应链选择，也为中国半导体产业链的自主可控注入了强劲的市场动能。

ArF Pellicle的成功量产，绝非单一环节的突破，而是芯链半导体在材料配方、精密工艺与品控体系上全方位深耕的结晶。

面对先进制程对透光率、厚度及洁净度的严苛要求，芯链全新的研发团队跨越了无数次试验的壁垒，在顶着巨大的市场压力，极其严苛的时间限制情况下，通宵达旦，不计艰辛，成功实现了从核心材料到成品制造的全面自主可控。

为了保障每一片ArF Pellicle的极致性能，芯链在制造端构建了行业领先的超洁净生产环境。我们深知，一粒微尘或一次微小的静电释放，都可能让价值高昂的光罩报废。因此，从材料制备到产品下线，全流程均在极高等级洁净环境下完成，从源头杜绝了Particle的附着，真正做到了“产出即洁净”。

与此同时，芯链打破了传统制造中各环节割裂的壁垒，实现了材料、设备与工艺的协同发力。通过打通“模具自主开发—精密加工—成型量产”的完整技术体系，我们不仅大幅缩短了产品的开发周期，更彻底解决了半导体客户最关注的批次间品质波动问题。正是这种对极致工艺的敬畏与对全流程品控的死磕，铸就了芯链ArF Pellicle稳定、可靠的核心竞争力。

从2022年底成立，到2024年首片Pellicle下线，再到2026年ArF Pellicle产品发布及多条核心产线投产，芯链半导体始终秉持“项目为王、创新为魂”的理念。

我们深知，半导体材料的国产替代是一场持久战。未来，绍兴芯链将继续紧跟国家半导体行业发展战略，围绕高端半导体材料持续加大研发投入。我们将以ArF Pellicle为新的起点，不断提升产品品质，为全球半导体客户提供更高质量、更稳定的光罩材料解决方案，矢志成为国内领先、国际一流的半导体材料标杆企业！

为了让历史不再重演，需要一代又一代人练就坚韧不拔的意志，磨砺持续不断地坚守，付出顽强不懈的努力。

积极正向，全力以赴，为生养我们的这片土地繁荣昌盛！

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