本产品 PSM-ArF 核⼼由超⾼纯合成⽯英基板（具 备极低 OH 含量、超低应⼒双折射、纳⽶级平整度 特性）、⾼精度 MoSi 膜（或可定制 OMOG 替代材 料）及光刻㬵层构成，经由清洗、溅镀、涂布及 全流程检验等完整⼯艺制成，确保⾼分辨率、相 位均匀性与⾼可靠性产出。
可覆盖 193nm 的 ArF ⼯ 艺所需，以便下游客⼾使⽤。
