国内领先的半导体光罩材料供应商，致力于高端半导体材料的国产化替代
ShinLans Pellicle 是光刻⼯艺专⽤⾼性能防护产品，专为保护光罩免受污染⽽设计。产品核⼼薄膜层形成可靠实体屏障，有效阻隔微尘与挥发性⽓体对光罩表⾯的侵蚀；同时针对多种曝光波⻓进⾏专项优化，凭借超薄特性最⼤限度降低曝光过程中的焦距偏移与穿透率失真，为先进电路图形化⼯艺提供全⾯满⾜关键技术要求的防护解决⽅案
KrF Pellicle 产品核⼼薄膜层形成可靠实体屏障
ArF Pellicle 产品核⼼薄膜层形成可靠实体屏障
I/G line Pellicle 产品核⼼薄膜层形成可靠实体屏 障
