BIM-FEP | BLANK系列

Binary Mask（即BIM，二元掩模）是半导体光刻工艺中应用最广泛的进阶型掩模，由透光区（石英基板）与遮光区（铬层）构成明暗图形，可靠性高、通用性强。

其产品结构为石英基板（SiO2）、金属层（Cr）、光阻（PR，即光刻胶），是成熟制程的进阶光掩模方案。