ShinLans Pellicle 是光刻⼯艺专⽤⾼ 性能防护产品，专为保护光罩免受污 染⽽设计。产品核⼼薄膜层形成可靠 实体屏障，有效阻隔微尘与挥发性⽓ 体对光罩表⾯的侵蚀；同时针对多种 曝光波⻓进⾏专项优化，凭借超薄特 性最⼤限度降低曝光过程中的焦距偏 移与穿透率失真，为先进电路图形化 ⼯艺提供全⾯满⾜关键技术要求的防 护解决⽅案
