绍兴芯链半导体科技有限公司 ShinLans Semiconductor Materials Technology Co., Ltd.

I/G line Pellicle | Pellicle系列

ShinLans Pellicle 是光刻⼯艺专⽤⾼性能防护产品，专为保护光罩免受污染⽽设计。产品核⼼薄膜层形成可靠实体屏障，有效阻隔微尘与挥发性⽓体对光罩表⾯的侵蚀；同时针对多种曝光波⻓进⾏专项优化，凭借超薄特性最⼤限度降低曝光过程中的焦距偏移与穿透率失真，为先进电路图形化⼯艺提供全⾯满⾜关键技术要求的防护解决⽅案

产品详情

基本技术参数介绍

• ⾼透过率技术 : T% ≥99.0% @365nm and @436nm

• 膜均匀性控制 : ≤0.50% @365nm and @436nm

结构简图

产品参数

项次	尺寸	种类
1	1491225.8	I-line
2	1491224.6	I-line
3	1471204.6	I-line
4	1491185.8	I-line
5	1491134.6	I-line
6	1471094.6	I-line
7	109864.6	I-line
8	1101073.75	I-line
9	98943.6	I-line
10	Φ1316.0	I-line
11	1601606.0	I-line
12	97.597.53.75	I-line
13	120983.7	I-line